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光学表面缺陷分析仪

光学表面缺陷分析仪

345
规格/型号：Lumina AT1
品牌：纳腾
应用领域：检测设备
产地：上海 - 上海
厂家/供应商：上海纳腾仪器有限公司
咨询电话:：021-6428 3335（请说明信息源自“B—sports必一网”）
更新时间：2025-07-07
级别：待认证

光学表面缺陷分析仪说明介绍

光学表面缺陷分析仪

光学表面缺陷分析仪


一、简介

Lumina AT1光学表面缺陷分析仪可对玻璃、半导体及光电子材料进行表面检测。Lumina AT1既能够检测SiC、GaN、蓝宝石和玻璃等透明材料，又能对Si、砷化镓、磷化铟等不透明基板进行检测，其价格优势使其成为适合于研发/小批量生产过程中品质管理及良率改善的有力工具。

Lumina AT1结合散射测量、椭圆偏光、反射测量与表面斜率等基本原理，以非破环性方式对Wafer表面的残留异物，表面与表面下缺陷，形状变化和薄膜厚度的均匀性进行检测。

1.偏振通道用于薄膜、划痕和应力点；

2.坡度通道用于凹坑、凸起；

3.反射通道用于粗糙表面的颗粒；

4.暗场通道用于微粒和划痕；

二、 功能

l 主要功能

1. 缺陷检测与分类

2. 缺陷分析

3. 薄膜均一性测量

4. 表面粗糙度测量

5. 薄膜应力检测

l 技术特点

1.透明、半透明和不透明的材料均可测量，比如硅、化合物半导体或金属基底；

2.实现亚纳米的薄膜涂层、纳米颗粒、划痕、凹坑、凸起、应力点和其他缺陷的全表面扫描和成像；

3.150mm晶圆全表面扫描的扫描时间为3分钟，50x50mm样品30秒内可完成扫描并显示结果；

4.高抗震性能，系统不旋转，形状无关，可容纳非圆形和易碎的基底材料；

5.高达300x300mm的扫描区域；可定位缺陷，以便进一步分析；技术能力

三、应用案例

1. 透明/非透明材质表面缺陷检测

2. MOCVD外延生长成膜缺陷管控

3. PR膜厚均一性评价

4. Clean制程清洗效果评价

5. Wafer在CMP后表面缺陷分析

6. 多个应用领域，如AR/VR、Glass、光掩模版、蓝宝石、Si wafer等

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光学表面缺陷分析仪 表面缺陷分析仪 检测设备
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