工作原理
设备采用白光干涉与激光共聚焦双模式光学系统,通过LED环形冷光源均匀照射被测工件表面,反射光经高精度物镜聚焦至CCD传感器。白光干涉模式下,两束相干光在工件表面与参考镜间形成干涉条纹,软件通过分析条纹位移计算表面高度信息;激光共聚焦模式下,激光束聚焦于不同高度层,通过扫描获取三维轮廓数据。三轴CNC控制系统驱动大理石基座上的直线导轨与滚珠螺杆,实现X/Y/Z轴的精准定位,重复定位精度≤0.5μm,确保复杂曲面测量稳定性。
应用范围
覆盖半导体、航空航天、新能源、生物医疗等高精度制造领域:
半导体行业:检测晶圆表面粗糙度、键合线弧高、芯片封装平整度;
精密机械:测量模具型腔轮廓、齿轮齿形误差、螺纹中径与螺距;
新能源领域:验证电池极片厚度均匀性、燃料电池双极板流道深度;
生物医疗:分析人工关节表面形貌、植入物螺纹参数。
典型案例包括某半导体企业通过设备的亚纳米级粗糙度测量功能,将晶圆良品率提升至99.8%。
技术参数
测量范围:X/Y轴600mm×500mm,Z轴300mm(支持定制扩展);
精度指标:XY向示值误差≤(2+L/300)μm,Z向垂直度≤0.1μm;
光学系统:白光干涉与激光共聚焦双模式,500万像素CCD,综合放大倍率10-500X;
硬件配置:00级花岗石基座、高精密直线导轨、日本THK丝杆;
软件功能:支持3D形貌重建、粗糙度参数分析、CAD比对、SPC统计。
产品特点
双模式兼容:白光干涉与激光共聚焦自由切换,适应透明/反光/粗糙等多种材质;
高效稳定:全闭环控制与大理石基座设计,确保24小时连续运行无热变形;
智能操作:一键自动聚焦、3D拼接测量、R角自动拟合,降低操作门槛;
合规保障:数据符合ISO 4287标准,支持审计追踪,助力企业通过IATF 16949认证。