高真空溅射镀膜仪 Leica EM SCD500
Leica EM SCD500高真空溅射镀膜仪是一款无油高真空系统,专为FE-SEM观察前的样品镀膜、TEM/EDX喷涂以及多层膜样品制备设计。它具备多种功能,包括金属溅射镀膜、辉光放电、蚀刻(样品清洁)、碳丝蒸发镀膜、碳棒蒸发镀膜、金属热阻蒸发镀膜,还可选配液氮冷台(适配EM VCT100)。设备配备金属靶档板,适用于特殊溅射靶材的预溅射,确保镀膜纯度。可选配石英膜厚监控器,实现程序化控制膜厚并反馈镀膜仪。样品室尺寸有标配?106mm和选配?205mm(可容纳wafer 152mm/6"圆形或127mm/5"方形)两种规格。操作简单,带有LED指示,机身印有操作说明。
无油高真空系统,适合FE-SEM观察前样品镀膜机TEM/EDX喷涂要求;也可应用于制备多层膜样品
*功能:金属溅射镀膜/辉光放电/蚀刻(样品清洁)/碳丝蒸发镀膜/碳棒蒸发镀膜/金属热阻蒸发镀膜/加装液氮冷台(适配EM VCT100)
*带有金属靶档板,适用于特殊溅射靶材的预溅射,确保镀膜纯度
*可选配石英膜厚监控器,可程序化控制膜厚,并反馈镀膜仪
*样品室尺寸:标配?106mm,选配?205mm(可容纳wafer 152mm/6"圆形或127mm/5"方形)
*操作简单,带有LED指示,机身印有操作说明