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高真空PECVD设备(六通道)

高真空PECVD设备(六通道)

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规格/型号:KJ-T1200-S60-6ZH-PE
品牌:鸿炉机械
应用领域:材料制备
产地:河南 - 郑州
厂家/供应商:河南鸿炉机械设备有限公司
咨询电话::17737149370(请说明信息源自“B—sports必一网”)
更新时间:2025-07-24
级别:待认证

高真空PECVD设备(六通道)说明介绍

高真空PECVD设备(六通道)

设备介绍

六通道高真空PECVD系统是一款由1200度管式炉,等离子射频电源,分子泵高真空,六通道气路等组成的等离子化学气相沉积系统,加热腔体采用氧化纤维制品,其极低的热导率和比热容,保证了炉膛的快速升温和低蓄热,特别适合于科研单位的材料工艺研究。该等离子化学沉积系统广泛应用于沉积高质量、SiO2薄膜、Si3N4薄膜、SiC薄膜、硬质薄膜、光学薄膜和炭纳米管(CNT)、石墨烯材料等。也可可应用于纳米材料生长,石墨烯生成、金属薄膜,陶瓷薄膜等,复合薄膜等各种薄膜等,可制备出高质量的透明导电膜,用作手机触摸屏,平板电脑,智能穿戴,传感器等领域。

产品优势

成品质量好

PECVD具有基本温度低、沉积速率快、成膜质量好、针孔较少、不易龟裂等优点

沉积效果好

等离子体化学活性很强,很容易发生反应,在基片上沉积出所期望的薄膜

智能多段PID可编程

温控系统采用PID智能化程序控温,自整定功能并可编制多段升降温程序

技术参数

产品名称 六通道高真空PECVD系统

管式炉部分

产品型号 KJ-T1200-S60-6ZH-PE

炉管尺寸 Φ60mmX1400mm

(其他尺寸可根据客户需求定制)

炉管材质 石英管

加热区 400mm(其他尺寸可根据客户需求定制)

工作温度 ≤1100℃

最高温度 1200℃

温控方式 N型热电偶

控制方式 30段可编程序控温

控温精度 ±1℃

温控保护 具有超温和断偶保护功能

升温速率 建议≤10℃/min

加热元件 含钼电阻丝

炉膛材料 氧化铝多晶纤维

法兰接头 标配配有两个不锈钢真空法兰,已安装机械压力表和不锈钢截止阀

密封系统 该炉炉管与法兰之间采用硅胶O型圈挤压密封、撤卸方便、可重复撤卸,气密性好。

真空系统部分

名称 真空系统

主要参数 1.采用高真空分子泵组,极限真空度可达10-3pa

2.KF25快接,不锈钢波纹管,手动挡板阀与法兰,真空泵相连;

3.数字式真空显示,测量精度高

气路系统部分

名称 六路质量流量计

主要参数 六通道精密质量流量计:触屏控制,数字显示,自动控制。

进出气口:6进1出

流量控制:手动旋转式调节

等离子电源部分

名称 500W等离子电源

功率范围 0-500W(连续可调)

工作频率 13.56MHZ+0.005%

工作模式 连续输出

冷却方式 风冷

售后服务 质保一年,终身保修(耗材类:高温密封圈、炉管、加热元件等不属于质保范围)

更多规格可根据要求来定制
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