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低真空CVD系统

低真空CVD系统

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规格/型号:KJ-T1200-S60-CVD
品牌:鸿炉机械
应用领域:材料制备
产地:河南 - 郑州
厂家/供应商:河南鸿炉机械设备有限公司
咨询电话::17737149370(请说明信息源自“B—sports必一网”)
更新时间:2025-07-24
级别:待认证

低真空CVD系统说明介绍

低真空CVD系统

设备介绍

此款CVD系统工作温度为300℃至1200℃,配备真空泵,气体混合装置。采用了温度控制系统,高温精度,出色的气体流量精度,易于操作,有非常好的隔热效果和温度均匀性。 主要用于大学,研究中心和生产企业进行气相沉积相关的实验与生产。此款CVD高温管式炉适用于CVD工艺,如碳化硅镀膜、陶瓷基片导电率测试、ZnO纳米结构的可控生长、陶瓷电容(MLCC)气氛烧结等实验。

产品优势

真空度自动控制

中低真空系统具有真空度上下限自动控制功能

耐冲击高真空系统

高真空系统采用高压强,耐冲击真空泵,防止意外漏气造成真空泵损坏,延长系统使用寿命

PID程控控制系统

控制电路选用模糊PID程控技术,该技术控温精度高,热惯性小,温度不过冲

技术参数

产品名称 低真空CVD系统

产品型号 KJ-T1200-S60-CVD

管式炉部分

炉体结构 双层壳体结构,配有冷风系统自动降温炉壳温度

炉膛材质 日本技术真空吸附成型的优质高纯氧化多晶纤维固化炉膛,材料保温性能好、反射率高、温场均衡

最高温度 1200℃

连续工作温度 1100℃

升温速度 推荐≤10℃/min

炉管材料 高纯石英管

炉管尺寸 OD:60mm* ID:54mm * 长1200mm

(其他尺寸可根据客户需求定制)

仪器使用前必须放入管堵,防止热辐射

加热区长度 220+220+220mm

(其他尺寸可根据客户需求定制)

法兰 不锈钢密封法兰,拆卸方便,法兰上装有精密针阀

温控系统 温度控制系统采用人工智能调节技术,具有PID调节、自整定功能

1、采用PID方式调节控温,可设置30段升降温程序

2、控温精度±1?C

3、具有过温保护、断偶保护

4、仪表具有温度自整定的功能

加热元件 含钼合金电阻丝

测温元件 N型热电偶

进出气口 法兰上含有真空连接口,进出气口

气路系统部分

质量流量计 四路精密质量流量计:数字显示、气体流量自动控制。

MFC1 范围: 0-500 sccm(量程可选)

MFC2 范围: 0-500 sccm(量程可选)

MFC3 范围: 0-500 sccm(量程可选)

MFC4 范围: 0-500 sccm(量程可选)

气路:4 路

流量精度: 0.2%

真空系统部分

真空泵 1.旋片泵抽速2L/S

2.极限真空度:7*10-2Torr

3.数显真空计,实时显示真空度,真空显示范围:1×105--1×10-1pa
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